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            PECVD(立式/臥式)
            產品型號:
            產品產地:
            發布日期:2022-04-26
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            詳細介紹


            產品概述:

            ●PECVD主要應用于氧化硅(SiO2)和氮化硅(Si3N4)材料的薄膜生長,工作原理是在低壓引入高頻射頻電源,采取電容耦合方式使工藝氣體電離放電,形成等離子體狀態,產生大量的活性基團,這些活性基團在襯底材料表面發生化學反應并沉積到村底表面,生長出氧化硅(Si02)或氮化硅(Si3N4)薄膜。


            產品特點:

            ●成膜質量高

            ●體積小占地面積小,操作簡便

            ●具有良好的工藝性能,使用范圍廣泛


            技術指標:

            ●晶片尺寸:最大8英寸

            ●溫度:50℃-900℃

            ●真空系統:干泵+分子泵



            應用范圍:

            ●應用于半導體器件、電力電子器件、光電子等行業氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)薄膜的制備。

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